產品名稱：二手蔡司場發射電鏡SUPRA 40VP
產品型號：
更新時間：2024-04-29
產品特點：二手蔡司場發射電鏡SUPRA 40VP是一款高分辨率場發射掃描電子顯微鏡，擁有第三代GEMINI 鏡筒，可變壓強性能加上多種納米工具的使用，不用花費大量時間，使高分辨率成像和非導體樣本的分析成為可能，超大的樣品室適合各種類型探頭及配件的選擇。該場發射電鏡適用于材料領域、失效分析、過程控制，納米技術等。
產品詳細資料：
二手蔡司場發射電鏡SUPRA 40VP蔡司新一代蔡司場發射掃描電子顯微鏡，具有高質量的成像和分析能力，將*進的場發射掃描電子顯微鏡技術與優秀的用戶體驗結合。利用Sigma系列直觀的4步工作流程，在更短的時間內獲得更多的數據，提高測試與生產效率。可選配多種探測器，以滿足半導體、能源等新材料、磁性樣品、生物樣品、地質樣品等不同的應用需求。結合蔡司原位電鏡實驗平臺，可以實現自動智能化的原位實驗工作流程，高效率獲取高通量、高質量的原位實驗數據。EDS幾何設計保證了出色的元素分析性能，分析速度高、精度好、結果可靠。高分辨、全分析、多擴展、強智能、廣應用，全新Sigma系列是助力于材料研究、生命科學和工業檢測等領域的“多面手"。
[ 產品特點 ]
ü Gemini鏡筒設計，低電壓高分辨，無漏磁
ü 廣泛全面的應用場景
ü 豐富靈活的探測手段
ü 智能高效的工作流程
ü *進可靠的分析系統
ü 強大完善的擴展平臺
[ 應用領域 ]
ü 材料科學，如納米材料高分辨成像，高分子聚合物等不導電樣品成像，電池材料成分襯度成像，二維材料分析
ü 生命科學，如生物樣品超微結構成像，冷凍樣品高分辨成像
ü 地質礦物學，如地質樣品高分辨成像、成分分析以及原位拉曼聯用分析
ü 工業應用，如組件失效分析，工藝診斷
ü 電子半導體行業，如質量控制與分析，6英寸Wafer快速換樣，電子束曝光技術（EBL）
ü 鋼鐵行業，如夾雜物分析，金屬材料自動原位成像分析
ü 刑偵、法醫學
ü 考古學、文物保護與修復
NanoVP lite模式下斷裂的聚苯乙烯表面成像
氧化鋁顆粒高分辨二次電子成像
ETSE探測器氧化鋅枝晶成像 InLens SE探測器氧化鋯&氧化鐵復合材料成像
用于高品質成像與高級分析的場發射掃描電子顯微鏡
靈活的探測，4步工作流程，高級的分析性能
將高級的分析性能與場發射掃描技術相結合，利用成熟的 Gemini 電子光學元件。多種探測器可選：用于顆粒、表面或者納米結構成像。Sigma 半自動的4步工作流程節省大量的時間：設置成像與分析步驟，提高效率。
Sigma 300 性價比高。Sigma 500 裝配有背散射幾何探測器，可快速方便地實現基礎分析。任何時間，任何樣品均可獲得精準可重復的分析結果。
二手蔡司場發射電鏡SUPRA 40VP用于清晰成像的靈活探測
利用*進探測術為您的需求定制 Sigma，表征所有樣品。
利用 in-lens 雙探測器獲取形貌和成份信息。
利用新一代的二次探測器，獲取高達50%的信號圖像。在可變壓力模式下利用 Sigma 創新的 C2D 和 可變壓力探測器，在低真空環境下獲取高達85%對比度的銳利的圖像。
自動化加速工作流程
4步工作流程讓您控制 Sigma 的所有功能。在多用戶環境中，從快速成像和節省培訓首先，先對樣品進行導航，然后設置成像條件。
首先，先對樣品進行導航，然后設置成像條件。
接下來對樣品感興趣的區域進行優化并自動采集圖像。最后使用工作流程的最后一步，將結果可視化。
高級分析型顯微鏡
將掃描電子顯微鏡與基本分析相結合：Sigma 背散射幾何探測器大大提升了分析性能，特別是對電子束敏感的樣品。
在一半的檢測束流和兩倍的速度條件下獲取分析數據。
獲益于8.5 mm 短的分析工作距離和35°夾角，獲取完整且無陰影的分析結果。
基于成熟的 Gemini 技術
Gemini 鏡頭的設計結合考慮了電場與磁場對光學性能的影響，并將場對樣品的影響降至更低。這使得即使對磁性樣品成像也能獲得出色的效果。
Gemini in-lens 的探測確保了信號探測的效率，通過二次檢測(SE)和背散射(BSE)元件同時減少成像時間。
Gemini 電子束加
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